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C-276哈氏合金腔體



            真空腔體是建立在低于大氣壓力的環(huán)境下,以及在此環(huán)境中進行工藝制作、試驗和物理測量等所需要的技能。
            用現(xiàn)代抽氣方法獲得的很低壓力,每立方厘米的空間里仍然會有分子存在。
            氣體稀薄程度是對真空的一種客觀量度,直接的物理量度是單位體積中的氣體分子數(shù)。氣體分子密度越小,氣體壓力越低,真空就越高。真空常用帕斯卡或托爾做為壓力的單位。


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